CVD (화학기상증착)
Chemical Vapor Deposition
공정
기체 전구체를 가열된 기판·분말 위에서 반응시켜 박막·코팅을 형성하는 공정. 실리콘 음극의 탄소 코팅, 그래핀 성장 등에 쓰인다.
개요
튜브퍼니스에 석영튜브를 걸고 캐리어 가스(Ar·N₂)와 반응 가스(아세틸렌·실란 등)를 MFC로 정량 공급하며 증착한다. 온도·가스 비율·시간이 코팅 두께와 균일성을 결정한다.
실무 포인트
가연성·독성 가스를 다루므로 배기·검지 등 안전 설비가 전제다. 유량 기록이 없으면 재현이 불가능해 MFC 로깅이 사실상 필수다.